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電弧蒸發(fā)
電弧蒸發(fā)
發(fā)布時(shí)間：2022-06-07 點(diǎn)擊次數(shù)：634
電弧蒸發(fā)是物理氣相沉積的一種方式
此工藝是將被蒸發(fā)的固體金屬（靶材）置于真空腔室內(nèi)，產(chǎn)生輝光放電后，在靶材表面運(yùn)行，靶材在很小的幾個(gè)微米大小內(nèi)蒸發(fā)，電弧的運(yùn)動(dòng)是由磁場(chǎng)所控制的，蒸發(fā)出的金屬離子形成的等離子體將沉積于工件表面，這些工件是在真空腔內(nèi)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，電弧制備的涂層通常被用于工具和零部件的表面涂層，電弧工藝中實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)材料的高度電離，沉積涂層具有優(yōu)異的附著力。
電弧技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)：
高沉積速率(~1-3 μm/h)
高離化率，形成結(jié)合力好，致密的涂層
靶材冷卻，涂層工件受熱較少，這樣可以在低于100°C以下沉積
可以蒸發(fā)多種成分的金屬，剩余固態(tài)靶材成分不變
陰極可以放置在任何位置（水平、垂直、上部和下部），設(shè)備設(shè)計(jì)靈活
此工藝是將被蒸發(fā)的固體金屬（靶材）置于真空腔室內(nèi)，產(chǎn)生輝光放電后，在靶材表面運(yùn)行，靶材在很小的幾個(gè)微米大小內(nèi)蒸發(fā)，電弧的運(yùn)動(dòng)是由磁場(chǎng)所控制的，蒸發(fā)出的金屬離子形成的等離子體將沉積于工件表面，這些工件是在真空腔內(nèi)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，電弧制備的涂層通常被用于工具和零部件的表面涂層，電弧工藝中實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)材料的高度電離，沉積涂層具有優(yōu)異的附著力。
電弧技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)：
高沉積速率(~1-3 μm/h)
高離化率，形成結(jié)合力好，致密的涂層
靶材冷卻，涂層工件受熱較少，這樣可以在低于100°C以下沉積
可以蒸發(fā)多種成分的金屬，剩余固態(tài)靶材成分不變
陰極可以放置在任何位置（水平、垂直、上部和下部），設(shè)備設(shè)計(jì)靈活
